關(guān)于鹽霧試驗的標(biāo)準(zhǔn)說明
更新時間:2015-06-08 點擊次數(shù):2198
鹽霧試驗是一種主要利用鹽霧試驗設(shè)備所創(chuàng)造的人工模擬鹽霧環(huán)境條件來考核產(chǎn)品或金屬材料耐腐蝕性能的環(huán)境試驗。那么關(guān)于鹽霧試驗的標(biāo)準(zhǔn)有哪些呢?
1鹽霧試驗的國家標(biāo)準(zhǔn)范圍
本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了中性鹽霧(NSS),乙酸鹽霧(AASS)和銅加速乙酸鹽霧(CASS)試驗使用的設(shè)備,試劑和方法。
本標(biāo)準(zhǔn)也規(guī)定了評估試驗箱環(huán)境腐蝕性的方法。
本標(biāo)準(zhǔn)未規(guī)定試樣尺寸,特殊產(chǎn)品的試驗周期和結(jié)果解釋,這些內(nèi)容參見相應(yīng)的產(chǎn)品規(guī)范。
本標(biāo)準(zhǔn)適用于評價金屬材料及覆蓋層的耐蝕性,被測試對象可以是具有*性或暫時性防蝕性能的,也可以是不具有*性或暫時性防蝕性能的。
本標(biāo)準(zhǔn)的中性鹽霧試驗適用于金屬及其合金、金屬覆蓋層、有機覆蓋層、陽極氧化膜和轉(zhuǎn)化膜。乙酸鹽霧試驗和銅加速乙酸鹽霧試驗適用于銅+鎳+鉻或鎳+鉻裝飾性鍍層,也適用于鋁的陽極氧化膜。
2鹽霧試驗的國家標(biāo)準(zhǔn)引用標(biāo)準(zhǔn)
下列標(biāo)準(zhǔn)所包含的條文,通過在本標(biāo)準(zhǔn)中引用而構(gòu)成為本標(biāo)準(zhǔn)的條文。本標(biāo)準(zhǔn)出版時,所示版本均為有效,所有標(biāo)準(zhǔn)都會被修訂,使用本標(biāo)準(zhǔn)的各方應(yīng)探討使用下列標(biāo)準(zhǔn)版本的可能性。
GB5213—85深沖壓用冷軋薄鋼板和鋼帶
GB6461—86金屬覆蓋層對底材為陰極的覆蓋層腐蝕試驗后的電鍍試樣的評級
?。╡qvISO4540:1980)
GB12335—90金屬覆蓋層,對底材呈陽極性的覆蓋層腐蝕試驗后的試樣的評級
?。╡qvISO8403:1991)
GB/T9798—1997金屬覆蓋層鎳電沉積層(eqvISO1458:1988)
ISO6372-1:1989鎳和鎳合金—名詞術(shù)語和定義—*部分:材料
3鹽霧試驗的國家標(biāo)準(zhǔn)試驗溶液
3.1氯化鈉溶液配制
本試驗所用試劑采用化學(xué)純或化學(xué)純以上的試劑。將氯化鈉溶于電導(dǎo)率不超過20μS/cm的蒸餾水或去離子水中,其濃度為50g/L±5g/L。在25℃時,配制的溶液密度在l.0255~l.0400范圍內(nèi)。
3.2調(diào)整pH
根據(jù)收集的噴霧溶液的pH值調(diào)整鹽溶液到規(guī)定的pH值。
3.2.1中性鹽霧試驗(NSS試驗)
調(diào)整按3.1配制的鹽溶液的pH值,使其在6.5~7.2之間。pH值的測量可使用酸度計,作為日常檢測也可用測量精度為0.3的精密pH試紙。溶液的pH值可用鹽酸或氫氧化鈉調(diào)整。
噴霧時溶液中二氧化碳損失可能導(dǎo)致pH值變化。應(yīng)采取相應(yīng)措施,例如,將溶液加熱到超過35℃,才送入儀器或由新的沸騰水配制溶液,以降低溶液中的二氧化碳含量,可避免pH值的變化。
3.2.2乙酸鹽霧試驗(AASS試驗)
在按3.1制備的鹽溶液中加入適量的冰乙酸,以保證鹽霧箱(見4.2)內(nèi)收集液的pH值為3.1~3.3如初配制的溶液pH值為3.0~3.1,則收集液的pH值一般在3.1~3.3范圍內(nèi)。pH值的測定用酸度計,作為日常檢測也可用測量精度為O.1的精密pH試紙。溶液的pH值可用冰乙酸或氫氧化鈉調(diào)整。
3.2.3銅加速乙酸鹽霧試驗(CASS試驗)
在按3.2制備的鹽溶液中,加入氯化銅(CuCl2·2H2O),其濃度為0.26g/L±0.02g/L(即0.205g/L±0.015g/L無水氯化銅)。溶液的pH值調(diào)整方法與3.2.2相同。
3.3過濾
為避免堵塞噴嘴,溶液在使用之前必須過濾。
4鹽霧試驗的國家標(biāo)準(zhǔn)試驗設(shè)備
4.1用于制作試驗設(shè)備的材料必須抗鹽霧腐蝕和不影響試驗結(jié)果。
4.2鹽霧箱的容積不小于0.2m3,不小于0.4m3。箱頂部要避免試驗時聚積的溶液滴落到試樣上。箱子的形狀和尺寸應(yīng)能使箱內(nèi)溶液的收集速度符合8.3規(guī)定。
注1:鹽霧箱的設(shè)計簡圖見附錄A(提示的附錄)。
4.3加熱系統(tǒng)應(yīng)保持箱內(nèi)溫度達(dá)到8.1規(guī)定。溫度測量區(qū)距箱內(nèi)壁不小于100mm,并能從箱外讀數(shù)。
4.4噴霧裝置包括下列部分:
a)噴霧氣源:壓縮空氣應(yīng)通過過濾器,以除油凈化;然后進(jìn)入裝有蒸餾水的飽和塔濕化,其溫度應(yīng)高于鹽霧箱內(nèi)試驗溫度。zui后通過調(diào)壓閥進(jìn)入噴霧器,壓力應(yīng)控制在7OkPa~17OkPa范圍內(nèi)。
B)噴霧系統(tǒng):由噴霧器、鹽水槽和擋板組成。噴霧器可用一個或多個??烧{(diào)式擋板能防止鹽霧直接噴射到試樣上。噴霧器和擋板放置的位置對鹽霧均勻分布有影響。
C)鹽水槽:為保證均勻噴霧,應(yīng)有維持一定液位的裝置。調(diào)節(jié)噴霧壓力、飽和塔水的溫度和擋板位置使箱內(nèi)鹽霧沉降量和收集速度符合8.3規(guī)定。